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【摘 要】：图书：《巨峰科技-半导体工艺》 文章：制造CMOS集成电路 编号：JFSJ-21-032 作者：鞠丰科技 ? 概要： I. CMOS制造工艺概述 2. CMOS制造工艺流程 3.设计规则 CMOS制造： 1. CMOS晶体管是在硅片上

图书：《巨峰科技-半导体工艺》

文章：制造CMOS集成电路

编号：JFSJ-21-032

作者：鞠丰科技

?

概要：

I. CMOS制造工艺概述

2. CMOS制造工艺流程

3.设计规则

CMOS制造：

1. CMOS晶体管是在硅片上制造的

< p>2．光刻工艺类似于印刷机

3。在每个步骤中，沉积或蚀刻不同的材料

4。通过在简化的制造过程中查看晶圆 顶部和横截面是最容易理解的

逆变器部分：

1.通常nMOS晶体管使用p型衬底

2。需要n-well作为pMOS晶体管的主体

出色的基材丝锥：

1.衬底必须连接到GND，n-well必须连接到VDD

2。金属与轻掺杂半导体的连接不良，称为肖特基二极管

3。使用重掺杂井和基板接触/tap

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