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来源:IPRdaily中文网(IPRdaily.cn)

作者:陈军 安徽天禾律师事务所律师

原标题:集成电路布图设计专有权侵权案件常见问题剖析

集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。集成电路布图设计(下称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。立法层面，目前我国有关布图设计仅有《集成电路布图设计保护条例》(下称《条例》)、《集成电路布图设计保护条例实施细则》及《集成电路布图设计行政执法办法》三部法律法规。

自2001年10月1日《条例》施行后，笔者使用“案由:侵害集成电路布图设计专有权纠纷”为关键词，在中国裁判文书网上进行检索发现，截至2018年4月6日全部检索结果:判决与裁定共20篇。这其中，判决书11份，裁定书9份。20篇法律文书中，有部分裁决也为一起纠纷案件形成的多份法律文书，为此，能够为公众进行有效分析讨论的法律文书过少。

但随着《国家集成电路产业发展推进纲要》的颁布实施，及布图设计登记授权量的逐年增加[1]，如何为布图设计提供充分有效的法律保护，已为集成电路设计、制造等行业及司法实务所共同关注的问题。基于现有法律规定，结合前述已检索到的全部法律文书，笔者现就当前布图设计专有权侵权案件中常见争议焦点进行梳理，并将司法审判相应观点进行归纳总结，借此为布图设计权利人提供维权参考。

一、法律依据

我国《条例》就布图设计专有权的产生、具体内容及损害赔偿作出了具体规定，其中:

第四条受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

第七条布图设计权利人享有下列专有权:

(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;

(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

第八条布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。

未经登记的布图设计不受本条例保护。

第十二条布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。

第十六条申请布图设计登记，应当提交:(一)布图设计登记申请表;(二)布图设计的复制件或者图样;(三)布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品;(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

第三十条除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任:

(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的;

(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。

二、布图设计独创性举证责任

布图设计专有权人若要进行维权，首先需要解决的是布图设计具有独创性，当前司法实务观点认为，布图设计一经登记授权，即推定具有独创性，被诉侵权人若认为其不具有独创性，应提交反证予以证实，如:

(1)深圳市华彩威科技有限公司与深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案【广东省高级人民法院(2017)粤民终1145号】

“《条例》第四条规定:受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路生产者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。一审法院认为，分析独创性应当是先由明微公司明确主张权利内容，再由华彩威公司提出不属于独创性抗辩证据，在双方充分对抗的情况下，由法庭进行综合考虑，最终作出独创性判定。