“为公共研发机构和服务平台，它不是一家科研单位和高校，而是以企业身份运作，为股东负责，为产业服务，由董事会决策”

来源:国有资本运营

作者:金琳

上海集成电路研发中心有限公司(ICRD)拥有国内唯一的12英寸集成电路工艺引导线和研发平台,研发完成55-28纳米工艺技术,正在研发14纳米及以下先进工艺技术和三维集成电路工艺技术,为我国多家芯片制造和设计企业、设备和材料企业提供了先进技术转移和评价服务,成为我国先进工艺研发及国产装备和材料评价验证的主要共性技术平台。

上海集成电路研发中心有限公司成立于2002年,是根据国家关于加快集成电路产业发展的有关政策,由政府、企业、高校等单位联合投资的产学研相结合的国家级集成电路研发中心,是面向全国集成电路企业、大学及研究所开放的公共研发和服务机构。

上海集成电路研发中心有限公司陈寿面总裁介绍,ICRD向国内芯片制造企业提供了十余套工艺技术转让,为主要芯片制造企业提供各种先进工艺研发服务,并为几乎所有的国产集成电路装备和材料厂家提供新装备和新材料的评价验证服务,协助其产品快速提升质量和进入市场,支持了数十家国内设计公司的数百个产品实现国产化。研发中心的技术服务收入和设备材料验证收入呈现逐年攀升的态势。

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共性技术研发

集成电路产业追赶国际同行,从自主研发起步。借鉴“国际俱乐部”模式,上海以企业为主体,合建国家级集成电路研发中心。陈寿面介绍,研发中心是我国集成电路重大共性技术研发平台,即围绕CMOS主流工艺,和制造企业联合共同研发自0.18微米至28纳米系列工艺技术,现在主要研发14-10-7nm关键共性工艺,为国内生产线技术升级和新生产线建设提供先进工艺技术验证和可靠的技术来源,同时,为大学、研究机构的二维材料、量子点等新技术研究提供技术支持平台。

“共性技术”指的是上一代产品未采用,而下一代产品必须采用、并且可有多种应用的关键技术。在一些综合性非常强的技术领域,从技术发明到产品应用必须有三个阶段的布局:原创技术、共性技术、产品技术。共性技术吸收了多种原创技术,又可应用于各种产品技术,是创新的关键一环。以集成电路为例,从上世纪90年代末替代铝的铜互连工艺,到目前替代平面结构晶体管的立体结构FinFET晶体管工艺,都是基于物理、化学、电子等多学科综合创新后产生的共性技术,已成为目前制造处理器、存储器等各类芯片的核心技术。多方联合建立研发平台,实施共性技术的研发创新,能有效加快研发速度,降低风险,是国际上集成电路产业发展的一条成功经验。研发中心“你中有我、我中有你”的新型研发路径,一定程度上破了“专利门”瓶颈。中心和多家企业、大学院所同建一个“专利池”,从原本各有几千项专利,发展到共享数万项专利,相当于一个“国内半导体俱乐部”。

目前,由上海集成电路研发中心牵头,联合复旦大学、上海华虹、中芯国际、上海集成电路技术与产业促进中心、上海华岭等单位正在共同建设上海科创中心集成电路产业研发与转化功能型平台。该平台瞄准集成电路前瞻技术及自主可控集成电路产业链建设,为国产装备和材料提供验证服务,为国内关键芯片的设计和自主制造提供可持续升级的共性技术研发和转化服务

“重大共性技术研发”和“集成电路产业链技术创新与服务” 两大建设任务。这意味着ICRD正在通过提升平台能力、进一步集聚科研力量、凝练攻关目标、形成联合和成果转化机制和扩大服务规模等举措,由上海集成电路技术创新服务平台升级为上海集成电路产业研发与转化功能型平台。陈寿面介绍,该功能型平台管理的模式和机制仍然将采用开放合作的方式,汇聚国内优势资源和必要的国际合作,联合产业界共同实施。

ICRD技术研发能力正在不断提高。由复旦大学、中芯国际(上海)和上海集成电路研发中心各出资5000万元,联合投资组建实体公司“上海集成电路制造创新中心有限公司”也于今年7月3日正式揭牌启动为“国家集成电路创新中心”。其目标是围绕5nm及以下集成电路节点,和国际同步开展先进技术研发,实施器件结构和工艺创新,实现我国集成电路主流技术的正向设计,解决我国集成电路主流技术的方向选择和可靠来源问题。

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验证服务

研发中心也是第三方国产装备和材料评价验证中心,以先进工艺带动国内制造装备和材料的研发,实现评价验证服务支持,中心优先采用国产设备,建设12英寸工艺模块示范,实现设备和工艺的协同开发。上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)研制的光刻机是集成电路制造最关键的设备,每颗芯片诞生之始,都要经过光刻机的锻造。就在那电光火石之间,母版上复杂的电路设计图形转化为硅片上细微繁密的沟壑纹理。在上海集成电路研发中心有限公司就有两台来自SMEE的光刻机正在验证评价中。据了解,ICRD与全国所有国产集成电路装备企业签订了合作协议,这些企业均有设备在研发中心进行评价验证。